主要功能：

本设备主要用于铜基底镀膜超导腔或者纯铌超导腔的表面热处理。高功率脉冲激光器产生的脉冲激光照射到工件表面后，将能量沉积在工件浅表层，对工件深层（＞5μm）基本无影响，因此高功率脉冲激光在保持基底材料或者工件深层材料物理状态、物理性质不变的前提下，用于工件表层或表层薄膜材料的物理状态或物理性质改变的研究。 

服务内容： 

纳秒高功率激光器，通过产生极短的高功率激光脉冲，对样品表面进行热处理。其优点 是：该设备产生的激光脉冲在照射到物体表面后，将能量沉积在物体的浅表层，对于样品深层基本无影响。在射频超导加速器研制中，射频铜腔内壁的覆镀新材料-超导薄膜是射频超 导技术的新研究方向。新材料镀膜铜腔的应用旨在降低腔体成本，提供加速器加速梯度，减少能量损耗，改善射频超导加速器热稳定性等。相较于传统的真空溅射镀膜，化学熔盐法等 镀膜方法射频超导材料方面优势显著。但由于镀膜所需退火温度高，射频超导腔结构复杂， 且铜基底相对于镀层不耐热，对原位退火工艺提出了严峻的挑战。高功率纳秒脉冲激光是解 决这一问题的有效手段。通过控制脉冲宽度及占空比，让能量的沉积局限在表面，从而在保 护铜基底的同时满足膜层的退火需求。因此，纳秒高功率激光器在研究射频超导薄膜材料改性、镀膜内腔表面浅层退火工艺研究和核燃料元件小球热处理中将发挥重要作用。该设备还 可用于研究物体表面热处理、不耐热物质表面耐热材料镀层、样品浅层退火等，利用10~200ns的短脉冲激光对材料表面进行处理，从而开展核燃料、射频超导材料、和核能材料的表面研究。

主要技术指标：

1.最大平均功率（W）：1000； 

2.功率调整范围（％）：10-100可任意调节； 

3.激光输出中心波长（nm）:1064； 

4.最大脉冲能量（mJ）:50(@50ns); 

5.脉冲宽度（ns）:30ns/50ns/70ns/100ns可调； 

6.光斑形状：方型光斑且光强平顶分布； 

7.激光脉冲频率（kHz）:10-50; 

8.功率稳定度（％）：≦5； 

9.传导光纤长度（m）:10; 

10.冷却方式：水冷； 

11.最小弯曲半径（cm）:20; 

12.激光安全分级：4级 Class4。